【早读｜国产深紫外光刻机DUV预计年内交付】据媒体报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机（DUV）。在美国考虑进一步收紧对外国光刻设备向中国出口以及在华维修服务的限制之际，这项技术可能为中国芯片制造商提供关键设备的替代来源。路透社据美国科技媒体《The Information》报道，国产光刻机设备预计将在今年内交付给中国主要晶片制造商，包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储。